kemet抛光机

kemet抛光机描述

推荐用于 KemCol 15 的配件和耗材

描述 代码

3 件套陶瓷面调理环 361522

不锈钢塑料面调节环 362757

380 毫米不锈钢支撑板（用于抛光垫） 362033

380 毫米铝制升降盘 361001

380 毫米铝制驱动板 361002

380 毫米薄金属盘（用于磁性系统） 342563

380 毫米磁盘 345773

CMP 研磨液 5 升 10 升 20 升

Col-K 600212 600238 600204

科尔-K（NC） 600199 600239 600202

CMP抛光液

  kemet抛光机推荐耗材 代码

380 毫米 CHEM-H 聚氨酯抛光垫 341865

380 毫米 PSU-M 铈化学纺织布 341011

380 毫米 MRE 短绒毛终抛光垫 341715

  kemet化学机械抛光介绍

化学机械抛光 (CMP) 是一种在制造业中越来越流行的表面抛光方法。CMP 是将化学力和机械力组合应用于材料表面，以将其抛光至非常高的光滑度。该工艺对于难以加工或具有复杂几何形状的材料特别有用。

Kemet 提供各种标准和特殊金刚石产品，这些产品均在我们的质量控制实验室中配制和制造。每一种产品都是金刚石粉末的特殊混合物，在化学载体中具有特定的等级和浓度

  Kemet 产品使用后的效果表现：

好的切削量和表面光洁度

易于清洁

耐温性

润滑以防止干燥